無掩模技術(shù)：成本與效率的雙重revolution，Poloscore的無掩模光刻技術(shù)，徹底摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且耗時(shí)的硬掩模制備環(huán)節(jié)。通過激光直寫將設(shè)計(jì)直接投射到光敏層，不only節(jié)省了每套數(shù)萬元的掩模成本，更將圖案迭代周期從數(shù)周縮短至數(shù)小時(shí)。在芯片研發(fā)中，這一技術(shù)使科研團(tuán)隊(duì)可快速測試不同電路布局，將新品研發(fā)周期平均縮短60%；在小批量生產(chǎn)中，則避免了掩模庫存壓力，適配個(gè)性化定制需求。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動(dòng)技術(shù)普惠。?用戶案例broad：全球超500家科研機(jī)構(gòu)采用，覆蓋高校、研究所與企業(yè)實(shí)驗(yàn)室。河南桌面無掩模光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

某能源研究團(tuán)隊(duì)采用Polos光刻機(jī)制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術(shù)在PZT薄膜上刻制出50μm的叉指電極，器件的能量轉(zhuǎn)換效率達(dá)35%，在10Hz振動(dòng)下可輸出50μW/cm?的功率。通過自定義電極間距和厚度，該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動(dòng)，在智能穿戴設(shè)備中實(shí)現(xiàn)了運(yùn)動(dòng)能量的實(shí)時(shí)采集與存儲(chǔ)。其輕量化設(shè)計(jì)（體積